Eerste Intel 32nm 'Westermere' processor

11/02/09 om 09:00 - Bijgewerkt om 08:59

Bron: Datanews

Intel demonstreert de eerste 32 nanometer 'Westermere' processoren in zowel een desktop als mobiel systeem. En president en ceo Paul Otellini kondigt de grootste investeringen ooit in productiefaciliteiten in de VS aan.

Intel demonstreert de eerste 32 nanometer 'Westermere' processoren in zowel een desktop als mobiel systeem. En president en ceo Paul Otellini kondigt de grootste investeringen ooit in productiefaciliteiten in de VS aan.

In Intels 'tock-tick' systeem van alternerende architectuur/technologie-aankondigingen, is in 2009 de nieuwe 32nm productietechnologie aan de beurt. In San Francisco demonstreerde Intel de eerste 'Westermere' producten: processoren met een Nehalem microarchitectuur (de aankondiging van 2008) in 32nm technologie. De voorbereidingen voor de introductie van deze laatste verlopen voorspoedig (de snelste 'ramp up' ooit, volgens Intel), zodat de productie eind dit jaar op gang moet komen.

Op de desktop zal Intel zowel een high-end '6 core/12 threads' uitvoering als een '2core/4threads/integrated graphics' mainstream versie brengen, naast een uitvoering voor mobiele systemen. Voor de serverwereld komen er drie versies (Entry, Efficient performance en Expandable Scalable). De chips zullen voorts zowel in een geoptimaliseerde CPU uitvoering, als een System-on-Chip (SoC) versie worden uitgebracht, in combinatie met aangepaste chipsets. Door de kleinere afmetingen van de transistors zijn de processors ook van bijkomende functies en instructies voorzien, zoals 7 instructies voor een snellere encryptie/decryptie (o.a. AES).

Tegelijk kondigde president en ceo Paul Otellini een investering van 7 miljard dollar aan, met het oog op de productie van 32nm chips in de eenheden in de Verenigde Staten (Oregon, New Mexico en Arizona). Sinds 2002 zal Intel dan 50 miljard dollar hebben geïnvesteerd in de VS met het oog op onderzoek en ontwikkeling (O&O) en productie. In het 32nm productieproces zal Intel ook voor het eerst gebruik maken van 'immersion lithography' voor kritieke lagen. Immersion lithography maakt gebruik van een vloeistof tussen de lichtbron en de siliciumschijf voor een nog scherpere focus.

Onze partners