Quantum lithografie zou de beloften voor grensverleggende productiemethoden in onder meer chipproductie niet hard kunnen maken.
Quantum lithografie zou de beloften voor grensverleggende productiemethoden in onder meer chipproductie niet hard kunnen maken.
De wedloop om steeds meer en dus kleinere transistors en andere elementen met ‘licht’ te kunnen tekenen op allerlei chipmateriaal, resulteerde in het gebruik van licht met steeds kortere golflengte (en de bijhorende lens- en belichtingssystemen). De producenten van belichtingssystemen (zoals het Nederlandse ASML) bleken aardig in staat materiaal te leveren zodat de chipbedrijven (zoals Intel) ‘Moore’s law’ (een verdubbeling van het aantal transistors op een gegeven oppervlak om de 18 maanden) bleven eerbiedigen. Maar kortere golflengenten betekenden tevens ‘licht’ met meer energie, dat makkelijker door het materiaal van lenssystemen wordt geabsorbeerd.
Rond 2000 werd beschreven hoe ‘quantum lithography’ een aantal beperkingen kon omzeilen door het fenomeen van ‘verstrengeling’ (‘entanglement’) van lichtdeeltjes (fotonen), zeg maar bundels van een aantal lichtdeeltjes. De vraag was evenwel of alle deeltjes op dezelfde plek zouden invallen, dan wel zouden verspreiden.
Onderzoekers aan Zweedse en Japanse universiteiten hebben sinds kort duidelijke aanwijzingen dat de deeltjes zich verspreiden. Het gevolg is dat voor een bruikbare belichting dit zou leiden tot onaanvaardbaar lange belichtingstijden voor commerciële productietoepassingen. Wat dan ook allicht quantum lithography afvoert als een levensvatbare oplossing om Moore’s law te bestendigen.
Het artikel ‘On the efficiency of quantum lithography’ – niet meteen lichte vakantielectuur – vindt u hier. Een wat bevattelijker artikel over dit onderwerp (een bespreking van het betreffende artikel) bevindt zich op een blog in MIT’s ‘Technology review’ site.
