Nieuw Europees onderzoek consortium rond chipproductie

Het Placyd consortium beoogt een Europees ecosysteem rond ‘directed self assembly’ lithografie.

De evolutie naar steeds kleinere transistors in chips stelt uitzonderlijk grote eisen aan de belichtingssystemen in het productieproces van chips. Tot nu toe konden de silicium-schijven met behulp van ‘gewone’ optische lithografie worden belicht (om de etspatronen op het silicium te tekenen), maar vanaf 10 nm zullen hoogstwaarschijnlijk nieuwe methoden – Next Generation Lithography – nodig zijn om de patronen op het silicium over te zetten (vandaag zit men op ’14nm’). Verschillende technologieën komen hiervoor in aanmerking, zoals belichten met extreem-UV en het rechtstreeks etsen met meerdere electronenstralen (naast andere vormen van nanolithografie).

Europees ecosysteem

Het Placyd consortium, onder leiding van het Franse Arkema (een producent van gespecialiseerde chemische producten) en in het kader van het Europese zevende onderzoeksframework (FP7), brengt topspelers samen zoals Intel, belichtingsmateriaal-marktleider ASML, STMicroelectronics, Mentor Graphics en onderzoeksinstellingen als CEA-Leti en een viertal universiteiten. Zij zullen producten en tools ontwikkelen voor ‘directed self assembly’ – een aanpak in chipproductie die gebruik maakt van chemicaliën (block copolymeren) zodat de nodige patronen zichzelf vormen voor de belichting. Met de DSA techniek kunnen nog kleinere chipgeometrieën worden bekomen, en dat kan helpen de huidige beperkingen van extreem-UV en andere nanolithografie-technieken te verlichten.

Ook in het Leuvense Imec wordt al een hele tijd gewerkt rond DSA, in samenwerking met chemicaliën producent AZ Electronic Materials. In 2012 beschikte Imec al over ‘s werelds eerste 300nm ‘fab compatible’ DSA proceslijn in zijn 300nm ‘clean room’.